マイクロファブリケーションの物理:フロントエンド工程
このコースでは、シリコン集積回路のデバイス製造に不可欠なフロントエンドプロセスの基本原理を深く掘り下げます。学習者は、酸化、拡散、イオン注入、エピタキシーなどの主要プロセスの高度な物理モデルや実用的な側面に加え、シリコンゲルマニウム(SiGe)などの新材料についても探究します。
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このコースでは、シリコン集積回路のデバイス製造に不可欠なフロントエンドプロセスの基本原理を深く掘り下げます。学習者は、酸化、拡散、イオン注入、エピタキシーなどの主要プロセスの高度な物理モデルや実用的な側面に加え、シリコンゲルマニウム(SiGe)などの新材料についても探究します。
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